E05200 - SEMI E52 - デジタルマスフローコントローラで使用されるガス，ガス混合物および気化して使用する材料の参照表 Revision:SEMI E52-0611 - Superseded 2 The specifications for epitaxial

2  The specifications for epitaxial silicon wafers for integrated circuit applications are restricted to wafers of diameter of 100 mm or greater with epitaxial layer thickness less than or equal to 25 µm

Alternative methods may be used as long as they comply with SEMI C1 guidelines for method validation

FPD用ガラス基板のベンダーおよび，あるいは購入者に使用される。

SEMI E17 — Guideline for Mass Flow Controller Transient Characteristics Tests

thermal coefficient

E05200 - SEMI E52 - デジタルマスフローコントローラで使用されるガス，ガス混合物および気化して使用する材料の参照表 Revision:SEMI E52-0611 - Superseded 2 The specifications for epitaxialglobal Gases Committee2011513global Audits and Reviews Subcommittee20116www. semiviews. org www. semi. org199520103 Referenced SEMI Standards None.